背景介紹：

1.±50nm超精密氣浮平臺是目前國內性能卓越的氣浮直線臺之一，可作為單軸使用，或根據(jù)應用與其它軸組裝成系統(tǒng)，廣泛應用于精密加工，測試測量，掃描、半導體及光子學等行業(yè)。

2.采用非接觸式氣浮導軌、直線電機驅動和光柵尺反饋裝置組成整個系統(tǒng)，可免維護運行。因為運動元件間沒有機械接觸，隨著時間的推移，不會出現(xiàn)磨損或性能下降，使用壽命長。

3. 氣浮導軌不需要潤滑，只需要清潔及干燥的氣體，是客戶應用的理想選擇。

4. 氣浮導軌基于氣體動靜壓效應，實現(xiàn)無摩擦和無振動的平滑移動，與摩擦式導軌相比，氣浮平臺的直線度、平面度等指標得到了很大提高，同時由于非接觸式，伺服反饋的跟隨誤差有了質的飛躍，定位精度和重復定位精度得到了顯著提高。

納米級氣浮平臺晶圓檢測系統(tǒng)解決方案：

需要精密定位的工藝環(huán)節(jié)，都需要高精度的電機驅動控制和導軌。晶圓切割要在極短的曝光時間內完美定位，就需要靠精密機械運作和實時的定位校正，納米級超精密氣浮平臺借由非接觸式氣浮導軌結構、直線電機驅動的移動方式，高平面度指標保證了理想的切割直線，同時能夠實現(xiàn)高動態(tài)響應和快速位置整定，能達成極高速的運動和持久穩(wěn)定的運作，在半導體晶圓切割等精密應用中，是理想選擇。

經(jīng)過多年精密運動平臺的技術積累和沉淀，已形成了一整套完備的精密運動平臺系統(tǒng)的研發(fā)和生產(chǎn)體系，特別在氣浮理論計算、結構優(yōu)化設計、精密集成組裝和測試等方面具備雄厚的實力。