半導(dǎo)體制造中的精密運動控制技術(shù):從氣浮旋轉(zhuǎn)軸到晶圓搬運機械手的全面解析
半導(dǎo)體制造作為現(xiàn)代高科技產(chǎn)業(yè)的基石,其制造精度與效率直接決定了集成電路的性能與可靠性。在這一高度復(fù)雜的制造過程中,精密運動控制技術(shù)扮演著至關(guān)重要的角色。本文將深入探討氣浮旋轉(zhuǎn)軸、晶圓校準(zhǔn)器、晶圓搬運機械手等關(guān)鍵設(shè)備的技術(shù)原理與創(chuàng)新應(yīng)用,分析湖州普利姆半導(dǎo)體有限公司在納米級超精密運動領(lǐng)域的突破性貢獻,并剖析精密運動臺設(shè)計中的關(guān)鍵技術(shù)要素。通過系統(tǒng)梳理這些核心技術(shù)與設(shè)備,我們不僅能夠了解當(dāng)前半導(dǎo)體制造裝備的前沿發(fā)展,更能把握未來精密運動控制技術(shù)的演進方向,為半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化與技術(shù)創(chuàng)新提供有價值的參考。
氣浮旋轉(zhuǎn)軸技術(shù):半導(dǎo)體制造精度的革命性突破
氣浮旋轉(zhuǎn)軸作為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造和精密制造領(lǐng)域的革命性技術(shù),代表了旋轉(zhuǎn)運動平臺精度和性能的巔峰。氣浮旋轉(zhuǎn)軸是一種集成了直驅(qū)電機、高精度編碼器、并采用氣浮軸承來實現(xiàn)納米級旋轉(zhuǎn)運動的高端設(shè)備,其通過向軸承腔體輸入壓縮空氣,由節(jié)流高壓空氣產(chǎn)生的氣膜將工件支撐起來,形成具有特定剛性及負載能力的懸浮層,從而實現(xiàn)轉(zhuǎn)臺臺面的無摩擦旋轉(zhuǎn)運動。
氣浮軸承作為氣浮旋轉(zhuǎn)軸的核心組件,其結(jié)構(gòu)設(shè)計直接決定了設(shè)備的性能表現(xiàn)。根據(jù)支撐方式的不同,氣浮軸承主要可分為三種類型:"工"字形結(jié)構(gòu)、"十"字形結(jié)構(gòu)以及錐形結(jié)構(gòu)。其中,"工"字形和"十"字形結(jié)構(gòu)具有較大的承載能力,但結(jié)構(gòu)件數(shù)量多、整體尺寸較高;而錐形結(jié)構(gòu)雖然簡單緊湊、高度尺寸小,但相應(yīng)的承載能力和氣浮剛度較低。在實際應(yīng)用中,設(shè)計人員需要根據(jù)具體的使用場景和性能要求,權(quán)衡選擇適合的氣浮軸承結(jié)構(gòu)。
氣浮旋轉(zhuǎn)軸的技術(shù)優(yōu)勢主要體現(xiàn)在以下幾個方面:
- 無摩擦運動:氣浮軸承通過空氣膜實現(xiàn)非接觸支撐,徹底消除了機械接觸帶來的摩擦和磨損,不僅大幅提高了運動精度,還顯著延長了設(shè)備的使用壽命。
- 納米級運動精度:先進的氣浮旋轉(zhuǎn)軸能夠?qū)崿F(xiàn)軸向/徑向回轉(zhuǎn)精度<±20nm,定位精度<±1.1弧秒,雙向重復(fù)定位精度<±0.1弧秒,靜態(tài)抖動<±0.3弧秒的超高精度指標(biāo),完全滿足最苛刻的半導(dǎo)體制造和精密光學(xué)應(yīng)用需求。
- 隨機位置坐標(biāo)觸發(fā)能力:由于沒有機械接觸帶來的非線性摩擦,氣浮旋轉(zhuǎn)軸可以在任意位置實現(xiàn)高精度觸發(fā)和定位,這一特性在精密測量和光刻應(yīng)用中尤為重要。
普利姆專業(yè)廠商生產(chǎn)的氣浮轉(zhuǎn)臺通常由四大核心組件構(gòu)成:無框力矩電機作為動力源驅(qū)動轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn);氣浮軸承系統(tǒng)通過高壓氣體形成空氣墊實現(xiàn)無接觸支撐;高精度光柵及讀頭用于檢測并反饋回轉(zhuǎn)角度;以及超高精度的回轉(zhuǎn)臺面或Chuck,其平面度和平行度會直接影響最終的跳動值。這些組件的協(xié)同工作確保了氣浮旋轉(zhuǎn)軸能夠在半導(dǎo)體制造、精密光學(xué)、航空航天等領(lǐng)域發(fā)揮關(guān)鍵作用。
在半導(dǎo)體制造設(shè)備中,氣浮旋轉(zhuǎn)軸已成為光刻機、晶圓檢測設(shè)備、晶圓切割設(shè)備等關(guān)鍵裝備的核心部件。特別是在晶圓檢測環(huán)節(jié),氣浮旋轉(zhuǎn)軸能夠為晶圓提供平穩(wěn)、精確的旋轉(zhuǎn)運動,配合光學(xué)檢測系統(tǒng)實現(xiàn)全自動、高精度的缺陷檢測和定位。隨著半導(dǎo)體特征尺寸的不斷縮小和集成度的持續(xù)提高,對氣浮旋轉(zhuǎn)軸的精度和穩(wěn)定性要求也在不斷提升,這推動著氣浮旋轉(zhuǎn)軸技術(shù)向更高精度、更高可靠性方向發(fā)展。
值得注意的是,氣浮旋轉(zhuǎn)軸的設(shè)計與制造涉及流體力學(xué)、精密機械、自動控制、材料科學(xué)等多學(xué)科的交叉融合,技術(shù)門檻極高。目前,全球僅有少數(shù)幾家企業(yè)能夠提供滿足半導(dǎo)體級要求的氣浮旋轉(zhuǎn)軸產(chǎn)品。在這一背景下,中國企業(yè)在氣浮旋轉(zhuǎn)軸技術(shù)領(lǐng)域的突破顯得尤為重要,它不僅關(guān)系到單個產(chǎn)品的國產(chǎn)化,更關(guān)乎整個半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。
晶圓校準(zhǔn)器(Aligner):半導(dǎo)體制造中的精密定位核心
晶圓校準(zhǔn)器作為半導(dǎo)體制造前道工序中的關(guān)鍵設(shè)備,承擔(dān)著確保晶圓精確定位和姿態(tài)調(diào)整的重要使命。隨著集成電路制程不斷向更小節(jié)點推進,幾乎每種工藝前都需要進行晶圓定位和姿態(tài)調(diào)整,這使得晶圓校準(zhǔn)器成為半導(dǎo)體生產(chǎn)線中不可或缺的核心組件。晶圓校準(zhǔn)器的性能參數(shù),特別是對準(zhǔn)時間,對晶圓在前端模塊中的傳片速度有著至關(guān)重要的影響,直接關(guān)系到整個半導(dǎo)體制造流程的生產(chǎn)效率。
現(xiàn)代晶圓預(yù)對準(zhǔn)主要采用邊緣檢測傳感器(激光傳感器或圖像傳感器)配合精密轉(zhuǎn)臺計算晶圓的偏心位置,并定位晶圓邊緣的缺口(Notch)或平邊(Flat),然后利用機械運動平臺校正晶圓位置,為下一步的晶圓傳輸做好準(zhǔn)備。這一過程看似簡單,實則包含了復(fù)雜的機械設(shè)計、高精度傳感技術(shù)和先進控制算法的融合。晶圓校準(zhǔn)器必須能夠處理不同尺寸的晶圓(如200mm和300mm),并適應(yīng)各種工藝環(huán)境(包括超高潔凈度和真空環(huán)境)的要求。
傳統(tǒng)晶圓搬運與校準(zhǔn)流程存在明顯的效率瓶頸。在常規(guī)操作中,晶圓機械手首先從晶圓盒中取出晶圓,然后放置到獨立的晶圓校準(zhǔn)器上進行偏心補正和缺口定位,完成后再由機械手將晶圓搬運到工藝腔室。這一過程不僅效率低下,而且在校準(zhǔn)后經(jīng)過二次搬運還會引入新的位置誤差。針對這一問題,業(yè)界創(chuàng)新性地開發(fā)了集成式晶圓校準(zhǔn)搬運機械手,將校準(zhǔn)功能直接整合到搬運機械手中,實現(xiàn)了搬運與校準(zhǔn)的一體化操作。
研發(fā)的晶圓校準(zhǔn)搬運機械手代表了這一技術(shù)方向的最新進展。該設(shè)備創(chuàng)造性地將晶圓校準(zhǔn)機構(gòu)直接安裝在機械手安裝架上,位于牙叉(晶圓叉)的水平前后運動路徑下方。校準(zhǔn)機構(gòu)包括精密轉(zhuǎn)盤和轉(zhuǎn)盤驅(qū)動機構(gòu),能夠?qū)崿F(xiàn)升降、水平移動和旋轉(zhuǎn)運動。牙叉上設(shè)計有特殊的避位部,允許轉(zhuǎn)盤上升穿過牙叉,直接接觸并承接晶圓,進行校準(zhǔn)操作。這種設(shè)計消除了傳統(tǒng)方案中晶圓的二次搬運,大幅提高了效率,同時避免了因二次搬運導(dǎo)致的位置精度損失。
技術(shù)創(chuàng)新點方面,現(xiàn)代晶圓校準(zhǔn)器在以下方面取得了顯著進展:
- 多傳感器融合技術(shù):結(jié)合激光位移傳感器、CCD視覺系統(tǒng)和編碼器反饋,實現(xiàn)全閉環(huán)控制,確保晶圓位置檢測和校正的準(zhǔn)確性;
- 主動振動抑制:采用先進算法實時補償機械振動對校準(zhǔn)精度的影響,特別是在高速旋轉(zhuǎn)時保持穩(wěn)定性;
- 智能缺口識別:基于機器學(xué)習(xí)的圖像處理算法能夠快速準(zhǔn)確地識別晶圓缺口方向,即使在邊緣污染或有顆粒附著的情況下也能可靠工作;
- 自適應(yīng)控制:根據(jù)不同晶圓厚度、材料和邊緣特征自動調(diào)整夾持力和旋轉(zhuǎn)速度,最大限度降低晶圓應(yīng)力變形和表面損傷風(fēng)險。
晶圓校準(zhǔn)器的高精度不僅體現(xiàn)在靜態(tài)定位上,更體現(xiàn)在動態(tài)旋轉(zhuǎn)過程中的穩(wěn)定性。以氣浮軸承為基礎(chǔ)的校準(zhǔn)轉(zhuǎn)臺能夠?qū)崿F(xiàn)納米級的軸向和徑向跳動控制,確保晶圓在高速旋轉(zhuǎn)時仍保持極高的位置穩(wěn)定性。同時,現(xiàn)代校準(zhǔn)器還集成了晶圓刻號讀取功能,能夠在校準(zhǔn)過程中同步讀取晶圓上的識別標(biāo)記,實現(xiàn)晶圓信息的自動核對和追蹤。
隨著半導(dǎo)體制造向更小制程節(jié)點發(fā)展,晶圓校準(zhǔn)技術(shù)面臨著新的挑戰(zhàn)和機遇。一方面,3D NAND和GAA晶體管等新結(jié)構(gòu)的引入對晶圓對準(zhǔn)精度提出了更高要求;另一方面,先進封裝技術(shù)的發(fā)展如Chiplet設(shè)計需要處理不同尺寸和材料的晶圓或芯片的精準(zhǔn)對位。這些趨勢將推動晶圓校準(zhǔn)技術(shù)向更高精度、更高智能化和更強適應(yīng)性的方向發(fā)展,同時也為氣浮旋轉(zhuǎn)軸等核心技術(shù)提供了更廣闊的應(yīng)用空間。
晶圓搬運機械手:半導(dǎo)體自動化生產(chǎn)的核心執(zhí)行機構(gòu)
晶圓搬運機械手作為半導(dǎo)體制造設(shè)備中不可或缺的核心組件,承擔(dān)著在晶圓盒(FOUP)、工藝腔室和測量設(shè)備之間安全、高效傳輸晶圓的關(guān)鍵任務(wù)。在高度自動化的現(xiàn)代半導(dǎo)體生產(chǎn)線中,晶圓搬運機械手的性能直接影響整條生產(chǎn)線的吞吐量、良率和可靠性。根據(jù)工作環(huán)境的不同,晶圓搬運機械手主要分為兩大類:大氣機械手和真空機械手。大氣機械手主要在設(shè)備前端模塊(EFEM,Equipment Front End Module)中工作,負責(zé)大氣環(huán)境下的晶圓取放;而真空機械手則用于在反應(yīng)腔、真空傳輸腔等真空環(huán)境中進行晶圓傳輸。這兩種機械手雖然工作環(huán)境不同,但都需要具備防碰撞保護功能,并且對精度、潔凈度和可靠性有著極高的要求。
晶圓搬運機械手采用了一種創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計,包括基座、固定件、多個手指和晶圓承接塊等核心組件。固定件通過旋轉(zhuǎn)軸安裝在基座上,可在水平方向上旋轉(zhuǎn);多個手指的第一端通過可旋轉(zhuǎn)連接件均勻分布在固定件上,第二端則裝有晶圓承接塊;基座上還設(shè)置有多個連接件擋塊,位于相鄰手指的第一端之間,用于限制手指在旋轉(zhuǎn)過程中的位移。這種獨特的機械設(shè)計使該機械手能夠適應(yīng)不同尺寸晶圓的搬運需求,解決了傳統(tǒng)機械手只能夾持單一尺寸晶圓的問題,大幅降低了設(shè)備成本。
機械手關(guān)鍵技術(shù)方面,現(xiàn)代晶圓搬運機械手在以下領(lǐng)域取得了顯著突破:
- 自適應(yīng)夾持技術(shù):通過多指聯(lián)動機構(gòu)和智能控制算法,自動調(diào)整夾持力度和位置以適應(yīng)不同直徑和厚度的晶圓;
- 防振控制:采用先進運動規(guī)劃算法和實時振動抑制技術(shù),確保機械手在高速運動時仍能平穩(wěn)精確地定位;
- 末端執(zhí)行器設(shè)計:創(chuàng)新的月牙形牙叉結(jié)構(gòu)和真空吸附孔設(shè)計,既保證了晶圓穩(wěn)定夾持,又最大限度減少了與晶圓的接觸面積;
- 狀態(tài)監(jiān)測與故障診斷:集成多種傳感器實時監(jiān)控機械手狀態(tài)和晶圓位置,及時發(fā)現(xiàn)異常并采取保護措施。
晶圓校準(zhǔn)搬運機械手則代表了另一項重大創(chuàng)新——將校準(zhǔn)功能直接集成到搬運機械手中。該設(shè)備由安裝架驅(qū)動機構(gòu)、安裝架、牙叉驅(qū)動機構(gòu)、牙叉和晶圓校準(zhǔn)機構(gòu)組成。安裝架驅(qū)動機構(gòu)負責(zé)安裝架的升降和水平旋轉(zhuǎn);牙叉驅(qū)動機構(gòu)控制牙叉相對安裝架的水平前后運動,實現(xiàn)晶圓的叉取和放置;晶圓校準(zhǔn)機構(gòu)則安裝在安裝架上,位于牙叉運動路徑下方,包括轉(zhuǎn)盤和轉(zhuǎn)盤驅(qū)動機構(gòu),能夠進行升降、水平移動和旋轉(zhuǎn)運動。牙叉上設(shè)計有特殊的避位部,允許轉(zhuǎn)盤上升穿過牙叉承接晶圓并進行校準(zhǔn)操作。這種一體化設(shè)計使晶圓搬運、校準(zhǔn)過程中的效率更高,搬運后將晶圓放置在對應(yīng)工位時更加精準(zhǔn),避免了傳統(tǒng)方案中因二次搬運導(dǎo)致的位置誤差。
晶圓搬運機械手面臨的挑戰(zhàn)不僅來自機械設(shè)計本身,還來自半導(dǎo)體制造環(huán)境日益嚴(yán)苛的要求。在真空機械手方面,為防止晶圓碎片或晶圓應(yīng)力變形,真空機械手的精度、夾持力均衡性和穩(wěn)定性變得至關(guān)重要。同時,隨著半導(dǎo)體特征尺寸的不斷縮小,機械手產(chǎn)生的微粒污染也成為需要嚴(yán)格控制的問題?,F(xiàn)代真空機械手采用特殊表面處理和材料選擇來減少微粒產(chǎn)生,并通過優(yōu)化運動軌跡來降低機械振動和摩擦微粒。
檢測與傳感技術(shù)的集成是晶圓搬運機械手智能化的關(guān)鍵。西安奕斯偉的機械手設(shè)計包含了先進的檢測組件,用于檢測機械手的夾持狀態(tài)及所夾持晶圓的尺寸。該檢測系統(tǒng)由感應(yīng)器觸發(fā)擋塊和光電感應(yīng)組件構(gòu)成,光電感應(yīng)組件包括在水平方向上并排設(shè)置的多組感應(yīng)單元,每組感應(yīng)單元由豎直方向上相對設(shè)置的光電發(fā)射器和光電接收器組成。感應(yīng)器觸發(fā)擋塊的第二端能夠在這些光電對之間的間隙內(nèi)移動,通過檢測擋塊位置變化來確定機械手的夾持狀態(tài)以及所夾持晶圓的尺寸。這種非接觸式檢測方案既保證了高可靠性,又避免了傳統(tǒng)機械傳感器可能帶來的污染和磨損問題。
表:大氣機械手與真空機械手性能對比
特性 | 大氣機械手 | 真空機械手 |
---|---|---|
工作環(huán)境 | EFEM,充氣的loadport | 反應(yīng)腔,真空傳輸腔,抽真空的loadport |
主要挑戰(zhàn) | 速度,潔凈度 | 精度,應(yīng)力控制,可靠性 |
典型精度 | ±0.3mm | ±0.1mm或更高 |
特殊要求 | 防碰撞保護,快速交換 | 耐高溫,防微粒產(chǎn)生,抗輻射 |
隨著半導(dǎo)體制造向更大晶圓尺寸(如450mm)和更小制程節(jié)點發(fā)展,晶圓搬運機械手將面臨更大的技術(shù)挑戰(zhàn)。一方面,更大的晶圓尺寸要求機械手具有更長的臂展和更高的剛性;另一方面,更精細的制程要求更嚴(yán)格的潔凈度控制和更精確的定位能力。未來晶圓搬運機械手可能會更多地采用磁懸浮驅(qū)動、人工智能控制等先進技術(shù),以應(yīng)對這些挑戰(zhàn)并滿足半導(dǎo)體制造業(yè)不斷提高的生產(chǎn)要求。
湖州普利姆半導(dǎo)體有限公司:中國半導(dǎo)體精密運動控制的創(chuàng)新先鋒
湖州普利姆半導(dǎo)體有限公司(PrimTech)作為中國半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的新銳企業(yè),自2023年6月成立以來便展現(xiàn)出強勁的發(fā)展勢頭和技術(shù)創(chuàng)新能力。這家專注于半導(dǎo)體納米級超精密運動控制、EFEM晶圓移載系統(tǒng)及半導(dǎo)體精密零部件研發(fā)生產(chǎn)的高科技企業(yè),在成立之初便獲得基金的種子輪投資,隨后于2025年3月成功完成由浙商創(chuàng)投和梅花天使基金等知名投資機構(gòu)參與的數(shù)千萬元天使輪融資。這一系列資本市場的認(rèn)可,充分反映了投資機構(gòu)對普利姆技術(shù)實力和市場前景的看好。
普利姆半導(dǎo)體的創(chuàng)始團隊由來自中國科學(xué)院、海歸博士和半導(dǎo)體國際一線大廠的前員工組成,在復(fù)雜機器人系統(tǒng)控制、超精密制造加工、納米級運動控制、圖像視覺、半導(dǎo)體以及光學(xué)產(chǎn)品領(lǐng)域深耕多年,具備豐富的行業(yè)經(jīng)驗。公司總部位于浙江湖州,同時在無錫惠山經(jīng)濟開發(fā)區(qū)設(shè)立了研發(fā)生產(chǎn)基地,擁有近10000平方米的獨立廠房,其中包括2000平方米先進的潔凈實驗室和1000平方米超精密加工車間。這種完善的硬件設(shè)施為普利姆進行高精度半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn)提供了堅實基礎(chǔ)。
核心技術(shù)產(chǎn)品方面,普利姆半導(dǎo)體已經(jīng)形成了三大主要產(chǎn)品線:
- 超精密氣浮運動平臺:采用先進氣浮軸承技術(shù),實現(xiàn)納米級運動精度,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體檢測和光刻設(shè)備;
- EFEM晶圓移載系統(tǒng):集成晶圓搬運、校準(zhǔn)和檢測功能的高效傳輸系統(tǒng),支持半導(dǎo)體生產(chǎn)線自動化;
- 超精密氣浮運動主軸:為精密加工和測量設(shè)備提供高精度、高穩(wěn)定性的旋轉(zhuǎn)運動解決方案。
這些產(chǎn)品憑借卓越的性能、可靠性和品質(zhì)贏得了市場的反復(fù)檢驗和高度認(rèn)可,成立一年內(nèi)已服務(wù)華為、中芯國際等30余家客戶,設(shè)備出貨量達數(shù)百套。
普利姆半導(dǎo)體的快速發(fā)展得益于中國半導(dǎo)體設(shè)備市場的強勁增長。2023年全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)雖然處于周期性下滑階段,整體下降了9.4%,但中國半導(dǎo)體市場在政策與市場雙重驅(qū)動下仍實現(xiàn)了2.23%的小幅增長,其中半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域更是以89.4%的增長率實現(xiàn)逆勢增長,市場占有率達到了28%。江蘇省作為全國集成電路的起源地,無錫作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的聚集地,為普利姆半導(dǎo)體提供了良好的產(chǎn)業(yè)環(huán)境和市場機會。中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會常務(wù)副理事長于燮康指出,半導(dǎo)體設(shè)備高精度、高穩(wěn)定性的特點對國內(nèi)零部件創(chuàng)新突破提出了更高要求,這正與普利姆的技術(shù)發(fā)展方向高度契合。
在技術(shù)研發(fā)方面,普利姆半導(dǎo)體投入了大量資源,建立了包括軟件算法研發(fā)、機械設(shè)計、電氣開發(fā)、高精密調(diào)試控制、精密組裝加工等部門在內(nèi)的完整研發(fā)體系。公司配備了20多臺超精密加工設(shè)備,納米研磨車間,以及皮米精度激光干涉儀、納米激光面干涉儀、高精度蔡司三坐標(biāo)、瑞士電感測試儀等先進的檢測設(shè)備。這些高端設(shè)備和儀器為普利姆產(chǎn)品的精度迭代和質(zhì)量控制提供了有力保障。截至2025年初,公司已在半導(dǎo)體精密運動控制、晶圓移載以及半導(dǎo)體核心部件的開發(fā)中累計申報發(fā)明專利、實用新型專利、軟件著作權(quán)等數(shù)十余項,不斷實現(xiàn)高新技術(shù)的科技成果轉(zhuǎn)化。
普利姆半導(dǎo)體的市場戰(zhàn)略聚焦于半導(dǎo)體、精密光學(xué)、軍工、精密機床、生物醫(yī)療等高附加值領(lǐng)域,與國內(nèi)外多家知名科研機構(gòu)建立了緊密的研發(fā)合作關(guān)系,共同推進核心技術(shù)的研發(fā)和市場化應(yīng)用。公司通過對未來超精密應(yīng)用場景的精準(zhǔn)規(guī)劃,建立了先進的納米級實驗室及完善的研發(fā)生產(chǎn)體系,構(gòu)筑技術(shù)壁壘,致力于打造全球領(lǐng)先的納米級高精度產(chǎn)品。這種產(chǎn)學(xué)研緊密結(jié)合的發(fā)展模式,使普利姆能夠在短時間內(nèi)實現(xiàn)技術(shù)突破并快速響應(yīng)市場需求。
表:普利姆半導(dǎo)體發(fā)展里程碑
時間 | 事件 | 意義 |
---|---|---|
2023年6月 | 公司成立,獲中信旗下基金種子輪投資 | 公司正式起步,獲得資本認(rèn)可 |
2023年下半年 | 建立無錫研發(fā)生產(chǎn)基地 | 具備自主研發(fā)和生產(chǎn)能力 |
2024年 | 產(chǎn)品開始投放市場,服務(wù)首批客戶 | 實現(xiàn)技術(shù)商業(yè)化 |
2025年3月 | 完成數(shù)千萬天使輪融資 | 獲得資本市場進一步認(rèn)可 |
2025年上半年 | 客戶數(shù)量超過30家,設(shè)備出貨數(shù)百套 | 市場影響力顯著提升 |
普利姆半導(dǎo)體所處的半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)具有高技術(shù)門檻、高附加值的特點,同時也是國際競爭激烈的領(lǐng)域。中國作為全球最大的半導(dǎo)體消費市場,設(shè)備國產(chǎn)化率仍有很大提升空間。普利姆半導(dǎo)體憑借其核心技術(shù)團隊、先進制造能力和敏銳的市場洞察,正在這一關(guān)鍵領(lǐng)域逐步打破國外壟斷,實現(xiàn)國產(chǎn)替代。隨著中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的不斷完善和自主創(chuàng)新能力的提升,普利姆半導(dǎo)體有望在超精密運動控制領(lǐng)域發(fā)揮更加重要的作用,為中國半導(dǎo)體設(shè)備的自主可控做出貢獻。
面向未來,普利姆半導(dǎo)體計劃將本輪融資資金用于大規(guī)模量產(chǎn)、新建廠房、產(chǎn)品研發(fā)、設(shè)備添置等方面,這將進一步提升企業(yè)的生產(chǎn)研發(fā)能力,持續(xù)擴大市場份額。在中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展的背景下,普利姆半導(dǎo)體展現(xiàn)出強勁的持續(xù)發(fā)展?jié)摿褪袌鰬?yīng)用前景,有望成為全球超精密運動控制領(lǐng)域的重要參與者。
精密運動臺設(shè)計的關(guān)鍵因素與技術(shù)挑戰(zhàn)
精密運動臺作為現(xiàn)代高精度裝備的核心組件,其性能直接決定了半導(dǎo)體設(shè)備、精密測量儀器和高端數(shù)控機床的精度上限。隨著半導(dǎo)體制造工藝向納米級甚至亞納米級不斷發(fā)展,對精密運動臺的動態(tài)特性和精度要求也達到了前所未有的高度。精密運動臺本質(zhì)上是一種定位精度達微米或納米級別的定位與傳輸運動模組,主要由直線電機作為驅(qū)動單元,配套精密光柵尺作為測量反饋單元,通過精密直線導(dǎo)軌實現(xiàn)導(dǎo)向,并通過閉環(huán)控制實現(xiàn)在三維空間內(nèi)任意一點的精準(zhǔn)定位。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,精密運動臺的定位精度決定了整機設(shè)備的加工或測量精度,而其速度和加速度則直接影響整機設(shè)備的生產(chǎn)效率。
精密運動臺的設(shè)計過程始于對用戶技術(shù)要求的全面分析。設(shè)計人員需要詳細考慮負載質(zhì)量、負載慣量、負載接口要求、負載外形尺寸、運動位移和角度要求、速度和角速度要求、加速度和角加速度要求等關(guān)鍵指標(biāo)。這些技術(shù)指標(biāo)之間存在復(fù)雜的相互影響關(guān)系:負載質(zhì)量/負載慣量與運動臺加速度/角加速度要求共同構(gòu)成了對運動臺驅(qū)動力的基本需求;運動臺運動速度/角速度要求決定了驅(qū)動系統(tǒng)的功率特性;而運動位移/角度則直接影響了運動臺的結(jié)構(gòu)尺寸和機械設(shè)計。在半導(dǎo)體制造設(shè)備中,這些技術(shù)指標(biāo)往往被推向極限,要求設(shè)計人員在多重約束下尋找最優(yōu)解決方案。
精密運動臺結(jié)構(gòu)設(shè)計涉及五個核心參數(shù):上鉸圓半徑Ra、下鉸圓半徑Rb、運動臺處于工作零位時上下鉸點間距離L2、上鉸相鄰鉸之間的距離da和下鉸相鄰鉸之間的距離db。這些結(jié)構(gòu)參數(shù)共同決定了運動臺的運動學(xué)和動力學(xué)特性,需要通過優(yōu)化設(shè)計方法進行精心確定。值得注意的是,運動臺所能實現(xiàn)的角度有一定限制,過大的運動角度不僅會給結(jié)構(gòu)設(shè)計帶來困難,還可能導(dǎo)致運動臺在失控狀態(tài)下達到奇異位形——在這種位形下,運動臺可能會在負載或上平臺重力作用下產(chǎn)生傾覆,造成嚴(yán)重危險。因此,運動臺結(jié)構(gòu)設(shè)計時必須保證在整個工作空間上都不存在奇異位形,確保運動臺即使失控也不會產(chǎn)生傾覆現(xiàn)象。
精密運動臺根據(jù)行程和精度要求的不同,主要分為三種技術(shù)路線:壓電陶瓷精密運動平臺、直線電機精密運動平臺和音圈電機驅(qū)動的柔性導(dǎo)向精密運動平臺。壓電陶瓷平臺在100μm以下行程范圍內(nèi)能夠輕松達到納米級甚至亞納米級精度,利用材料的逆壓電效應(yīng)工作,通過控制加載電壓來精確控制形變量。由于壓電材料本身是脆性材料,無法承受切向力,因此需要結(jié)合柔性導(dǎo)向(柔順機構(gòu))使用。柔性導(dǎo)向利用柔性變形完成位移傳遞功能,具有無摩擦、無回隙、免維護等顯著優(yōu)點。對于幾十毫米至上百毫米的運動范圍,直線電機驅(qū)動配合氣浮或磁懸浮導(dǎo)向成為首選方案,能夠避免機械接觸產(chǎn)生的摩擦力,實現(xiàn)亞微米級甚至納米級運動精度。而對于幾毫米的"跨尺度"運動需求,音圈電機(VCA)驅(qū)動結(jié)合柔性導(dǎo)向系統(tǒng)能夠在毫米級行程上實現(xiàn)納米級精度,填補了壓電陶瓷和直線電機之間的技術(shù)空白。
超精密運動平臺的設(shè)計面臨著多方面的技術(shù)挑戰(zhàn)。隨著運動精度需求向亞納米級不斷發(fā)展,動力學(xué)特性已成為決定系統(tǒng)運動精度的關(guān)鍵因素。要減少產(chǎn)品開發(fā)的迭代次數(shù),縮短開發(fā)周期,降低研制風(fēng)險,就必須從系統(tǒng)層面出發(fā),在超精密運動平臺方案設(shè)計、子系統(tǒng)和組件設(shè)計到系統(tǒng)詳細設(shè)計的各個階段,確保平臺具有良好的動力學(xué)特性和精度性能。然而,構(gòu)建能正確描述關(guān)鍵組件動力學(xué)行為和耦合作用的超精密運動平臺系統(tǒng)詳細方案模型,并全面評估系統(tǒng)方案的動力學(xué)特性、精度性能及其影響規(guī)律,對設(shè)計者的專業(yè)知識和操作經(jīng)驗提出了極高要求。
針對這些挑戰(zhàn),先進的集成設(shè)計方法正在成為精密運動臺設(shè)計的重要趨勢。這種方法將建模和分析知識分別封裝為組件模板、仿真和后處理工具。在每個設(shè)計階段,通過調(diào)用組件模板生成以動力學(xué)參數(shù)作為主要參數(shù)的模塊化關(guān)鍵組件等效模型,用于快速組裝系統(tǒng)方案模型;然后通過仿真和后處理工具對系統(tǒng)方案進行全面分析,確保其具有滿意的動態(tài)性能。這種集成設(shè)計方法能夠顯著降低超精密運動平臺詳細方案設(shè)計的難度,提高設(shè)計效率,是應(yīng)對日益復(fù)雜的精密運動臺設(shè)計需求的有效途徑。
精密運動臺性能優(yōu)化需要重點關(guān)注以下幾個方面:
- 動態(tài)誤差控制:分析驅(qū)動力作用點位置、氣浮支承布局、氣浮支承非線性剛度特性、運動平面誤差和基礎(chǔ)振動等結(jié)構(gòu)和動力學(xué)設(shè)計因素對系統(tǒng)動態(tài)誤差的影響規(guī)律;
- 振動抑制:采用主動或被動振動控制技術(shù),降低機械振動對運動精度的不利影響;
- 熱穩(wěn)定性設(shè)計:通過材料選擇、結(jié)構(gòu)對稱設(shè)計和熱管理措施,減小熱變形對運動精度的干擾;
- 控制算法優(yōu)化:應(yīng)用高動態(tài)運動軌跡生成與整形技術(shù)、多自由度高精度智能解耦技術(shù)、面向多源重復(fù)性擾動的迭代學(xué)習(xí)技術(shù)等先進控制方法。
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,精密運動平臺的應(yīng)用場景非常廣泛。在京東方、TCL華星光電、維信諾等面板廠商擴充產(chǎn)線及OLED國產(chǎn)化推動下,曝光機、涂膠機、涂布機、噴墨打印機、刻蝕機、AOI檢測設(shè)備等裝備對精密運動平臺的需求快速增長。這些應(yīng)用場景對精密運動平臺提出了幾個共同的關(guān)鍵要求:高精度和穩(wěn)定性、模塊化和可擴展性、潔凈室兼容性(符合ISO 14644潔凈室5級標(biāo)準(zhǔn))、多軸運動能力、低摩擦或無接觸運動等。這些嚴(yán)苛要求推動著精密運動臺技術(shù)不斷創(chuàng)新和進步。
未來,隨著半導(dǎo)體制造工藝的進一步發(fā)展,精密運動臺將面臨更大的技術(shù)挑戰(zhàn)和機遇。一方面,3D集成電路、先進封裝和新型存儲器等技術(shù)對運動臺的精度和動態(tài)性能提出了更高要求;另一方面,新材料、新驅(qū)動技術(shù)和智能控制算法的引入也為精密運動臺性能提升創(chuàng)造了新的可能性。在這一背景下,中國企業(yè)在精密運動臺領(lǐng)域的技術(shù)積累和突破顯得尤為重要,它關(guān)系到中國半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控和長期競爭力。湖州普利姆半導(dǎo)體等創(chuàng)新型企業(yè)在該領(lǐng)域的投入和成果,為中國精密運動控制技術(shù)的發(fā)展注入了新的活力。
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